1電鍍技術

最常見的電鍍技術是利用電解的方法從一定的電解質水溶 液中,在經過凈化處理的基體(工件〉表面沉積所需性能或尺寸的連續、均勻的一種或幾種金屬層一電鍍層。這是一種電化學 過程。電鍍技術屬于表面工程技術中的覆蓋層技術，為金屬原子沉積技術。耐酸堿泵，自吸泵，磁力泵

2電鍍工藝

2.1基體表面的凈化處理——清洗工藝

2.1.1清洗的目的

金屬鍍層與基體的附著力是保證電鍍產品質量的關鍵。基體材料在電鍍前,表面會存在各種污物，主要是油污(切削液、潤 滑液、拋光膏等)。基體材料表面的潔凈度直接影響電鍍層的附著力，因此,粘有油污的表面必須進行清洗。

2.1.2清洗工藝及污染物

淸洗工藝有堿液清洗、溶劑清洗、表面活性劑清洗等化學清 洗法。清洗工藝內容包括去污清洗與清水漂洗。

2.1.2.1堿液清洗

最常見的清洗工藝為堿液清洗。當堿液濃度不足時,要適當補充堿。耐酸堿泵，自吸泵，磁力泵

2.1.2.2 漂洗

經堿液清洗的工件表面，必須用軟水(熱水或冷水〉漂洗干 凈,去除表面粘有的堿液、污物。漂洗工藝過程要產生大量堿性 漂洗廢水。

2.1.3表面清洗新工藝

以物理作用取代化學作用，少用或不用對環境有危害的化 學品，這是表靣清洗工藝發展的趨勢。常見的表面清洗新工藝為超聲波清洗。系采16Hz~24Hz的高頻超聲波，以縱波推動清洗液，使液體產生無數微小的真空 泡,當氣泡受壓爆破時，產生強大的沖擊波對油污層進行沖刷;氣蝕及超聲波反射聲壓對'液體產生激烈攪拌。這些會使工件得 到很好的清洗，特別是對于形狀較復雜或有細縫隙、小孔的工件 效果更好。超聲波清洗要排放含油污及清洗液的廢水。

2.2電鍍工藝及污染

2.2.1含氰化物電鍍

2.2.1.1 鍍層

鍍鋅采用氰化鈉做絡合劑;鍍銅采用氰化亞銅、氰化鈉為鍍 液主要成分;鍍金采用氰化金鉀、氰化鉀為鍍液主要成分;鍍銀 采用氰化銀、氰化銀鉀、氰化鉀為鍍液主要成分。

2.2.1.2高中氰鍍液中氰化物配比

2.2.2鍍鉻

鍍鉻在電鍍工業中占有極其重要的地位。鍍鉻是電鍍單金 屬中較為特殊的電鍍層。鍍鉻層具有很髙的硬度(HV為400MPa-1200MPa);鍍鉻層的摩擦系數低，其干摩擦系數在所有金 屬中是最低的;鍍鉻層在一般大氣條件下能長久地保持其原有的光澤而不變色;鍍鉻層具有良好的化學穩定性;在可見光范圍 內,其反射能力約為65%，且可長久保持。因此,鍍鉻被列為三大鍍種之一。

2.2.2.1鍍鉻的鍍液

鍍鉻的鍍液主要包括鉻酐、硫酸、氟桂酸等。

22.2.2六價鉻鍍鉻工藝污染物

1鍍后清洗工件產生的含六價鉻的生產廢水。

2鍍鉻工藝過程產生的鉻酸霧。

3電鍍污染治理

3.1堿性廢水的處理

可采用投藥中和(投放商品酸或廢無機酸進行中和，尤其對于pH值>40的強堿性廢水、酸性廢水中和及煙道氣中和。

3.2含氰廢水的處理

含氰廢水中除游離氰外，還含有鋅氰、銅氰、銀銀等配離子 存在，所以，應分質單獨設計一個處理系統，不應與其他電鍍廢 水混合處理;同時,還應包括重金屬離子處理。處理后排放廢水中CN-質量濃度≤0.5mg/l。

3.2.1堿性氯化法

3.2.4其他處理方法

除上述方法外，還有活性炭吸附法、離子交換法、臭氧法和硫酸亞鐵法等。

3.3含絡廢水的處理

要求處理后排放廢水中的六價鉻質量濃度≤0.5mg/l，總鉻小于等于1.5mg/l。

3.3.1化學法

最常采用的方法為化學法，主要是亞硫酸鹽還原法。

在酸性條件下，使六價鉻還原成三價鉻，再加堿調整廢水值，形成氫氧化鉻沉淀。

3.3.2電解法

電解法包括鐵板電極電解法、鐵屑內閃電電解法。

3.3.3活性炭吸附法

常用的方法還有活性炭吸附法。

3.4含鋅廢水的處理

要求處理后排放廢水中總鋅質量濃度一級小于2.0 mg/l、三級小于5.0mg/l。

最常采用的方法包括化學沉淀法離子交換法及反滲透法。

4電鍍新工藝

4.1無氰電鍍

在鍍鋅方面已有較成熟的無氪電鍍技術。無氰鍍鋅的鍍液 有堿性鋅酸鹽鍍液、胺鹽鍍液、硫酸鹽鍍液、氣化鉀鍍液。

4.2三價絡鏈鉻

國外已試用于工業生產。其電解液為絡合物電解液，主鹽為 氯化鉻或硫酸鉻,絡合劑為甲酸鹽(甲酸鉀或甲酸胺〉，加人一定 量的導電鹽(氣化鉀或硫酸鈉用碉酸做緩沖劑,再加人少量潤濕劑。

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